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紅外金平面反射爐該系列應用廣泛，從碳納米管生產(chǎn)系統(tǒng)到產(chǎn)線生系統(tǒng)；平面金反射爐可用于2~12英寸圓晶的退火爐和產(chǎn)品的烘干爐；

RTP快速退火爐已經(jīng)成為半導體、鐵電體以及鍍膜行業(yè)的重要退火技術(shù)。但是目前，只有大型的、昂貴的生產(chǎn)設(shè)備才能完成快速熱處理，這大大降低了研發(fā)工作的效率（尤其是小的樣品）。為了滿足市場的需求，ADVANCE RIKO研發(fā)出MILA-5000系列的小型快速退火爐。此系列的設(shè)備包含紅外金面反射爐和高精度的溫度控制器。根據(jù)需求選配相應的泵和氣體接口，MILA能提供與大型RTP設(shè)備相同的熱處理性能。

高溫快速熱退火爐HT-RTA59HD高溫快速退火系統(tǒng)可以在SiC等高熔點的材料快速加熱到1800℃。